蝕刻液子液是一類沒有任何磷（lín）、氯添加劑的水基拋光劑的拋光液（yè）有著良好的去汙，防鏽，清洗緩（huǎn）衝和（hé）增光功能，同時能（néng）使金（jīn）屬加工製品超過本（běn）來光澤的蝕刻液（yè）。具有穩定、無毒，對生態環境無汙染等特點。

蝕刻液的主要成份：CuCL2·2H2O，HCl，NaCl，NH4Cl，H2O 酸（suān）性氯化銅蝕（shí）刻過程的主要化學反應在蝕刻過程中，氯銅中的Cu2+具有氧化性，能將板氧化成Cu¹⁺，其反應如下：蝕刻反應：Cu+CuCl^2->Cu₂Cl₂ 形成的Cu₂Cl₂是（shì）不易溶於水的在有（yǒu）過量的Cl^-存在下，能形成（chéng）可溶性的絡合離子，其反應如下：

絡合反應：Cu₂Cl₂ + 4Cl^- —>2[CuCl₃]^2-隨著銅的蝕刻（kè），溶液中的Cl¹⁺越來越多，蝕刻能（néng）力很快就會下降，直到最後失（shī）去效能。為保持蝕刻能力，可以過（guò）溶液再生（shēng）的方式將Cu1+重新生產CU2⁺，保持蝕刻（kè）能力. 蝕刻液的再生：再生的原（yuán）理主要是利用氧化劑將（jiāng）溶液中的（de）Cu¹⁺氧（yǎng）化成Cu²⁺。

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